| 品牌 | 昊量光电 | 产地类别 | 进口 |
|---|---|---|---|
| 应用领域 | 综合 |
Xeryon微型线性压电位移台的XLA系列（XLA-1/3/5/10）凭借其超紧凑设计、纳米级精度、高速度和Crossfixx™超声波压电驱动技术，在多个高精度运动控制领域具有优势。
XLA系列微型线性压电位移台核心参数-运动控制的突破
型号 | 行程范围 (mm) | 驱动力（N） | 分辨率 (nm) | 重复精度 (nm) | 速度（max）(mm/s) |
XLA-1 | 5-305 | 1 | 78/312/1250(闭环) / 20-50μm(开环) | ±80(单向) / ±160(双向) | 5.5-17.5 |
XLA-3 | 10-290 | 3 | 35.8-60 | ||
XLA-5 | 10-290 | 5 | |||
XLA-10 | 10-285 | 10 | 54.9-85.6 | ||
环境使用要求 | 工作温度-30℃~+70℃ 湿度要求20%-90% RH | ||||
XLA系列核心参数
大行程5-285mm
分辨率78nm-1250nm
重复精度80nm
速度5.5mm/s-85.6mm/s
选型建议
·高精度需求：优先选择XLA-1或XLA-3（分辨率达78nm，双向重复精度±160nm）。
·大负载应用：选择XLA-10（驱动力10N，保持力10N）。
·紧凑设计：XLA-1（仅5.4mm厚度）适合空间受限场景。
·高速运动：开环版本均支持1000mm/s。
控制器兼容性
·所有型号均支持以下控制方式：
·Windows图形界面
·LabVIEW/Matlab脚本
·C++/Python库
注：闭环版本需搭配专用控制器（XD-OEM/XD-A），开环版本内置控制器。
应用场景
1. 半导体与光刻设备
·光刻机精密对准：
XLA-10的高分辨率（78nm）和双向重复精度（±160nm）适合晶圆台的微米级定位。（如ASML光刻机中的掩模版调整）
·晶圆检测设备：
XLA-5的快速响应（点对点定位时间25ms）用于自动对焦和扫描平台。
·优势
·无磁干扰
·耐真空兼容（可选HV版本）
2. 生命科学与医疗设备
·共聚焦显微镜
·微创手术机器人
3. 光学与光子学
·自适应光学系统
·激光加工设备
·技术亮点
·无振动运动（超声波电机）
·支持LabVIEW/Python控制（快速集成）
4.工业自动化与检测
5.科研与定制化仪器
·低温实验环境
·超真空腔体
6.新兴技术领域
·AR/VR光学模组
·生物打印
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