DMD无掩膜光刻机

品牌	其他品牌	产地类别	国产
应用领域	化工,电子

DMD无掩膜光刻机无需制造掩膜，采用DMD数字掩膜,可在抗蚀剂内曝光所希望的任意图案。无掩膜光刻机可以读取任何CAD数据，除此之外DMD式无掩膜光刻机还可以读取Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等其它格式。DMD式无掩膜光刻机使用365nmLED光源，降低价格的同时实现了稳定的曝光。采用10倍物镜，一次曝光面积可达1mm´0.6mm，曝光时间仅需1s。结合电动移动平台，可实现曝光拼接，分辨率可达到3mm。可通过公司编写的软件完成详细设定，使操作简洁方便。

DMD无掩膜光刻机与传统的光刻机不同，AU-PALET光刻机采用DMD数字掩膜光刻技术，无需制造掩膜。大大降低了时间和成本。无掩膜光刻机可以读取任何创建的CAD文件，直接进行光刻。除了CAD文件，还可以读取丰富的其它格式的数据，例如Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等。

AU-PALET DMD式无掩膜光刻机采用短波段的LED灯为光源，相对于其它的光源，拥有更高的稳定性和更长的寿命，降低价格的同时实现了稳定的曝光。AU-PALET 无掩膜光刻机为面曝光，采用10倍的物镜，一次曝光面积可达到1mm´0.6mm，结合电动平移台可实现曝光拼接，可达到更大的曝光面积。可通过公司编写的软件完成简单操作和详细设定，操作简洁方便。

设备有限公司推出的DMD式无掩膜光刻机有两种。

① AU-PALET是一款快速光刻的无掩膜光刻机。本装置采用375nm的LED光源，实现了稳定的曝光，并且拥有更高的稳定性和更长的寿命。采用10´的物镜曝光面积达到1mm´0.6mm，光刻分辨率达到5mm，并在10s 内完成曝光。

②

②AU-PALET_new 是AU-PALET的升级版本，在光源上采用波长更短的365nm的LED灯作为光源，采用10´的物镜曝光面积达到1mm´0.6mm，光刻分辨率达到3mm，并在1s 内完成曝光。

u 主要特点

• 高速度（1s）

• 广范围（1´0.6mm）

• 365nm LED光源

• 高分辨率 （3mm）

• 成本低

u 主要应用

磁性薄膜等的任意形状的图案的形成

传感器，半导体器件的制作

MEMS器件的试制、

光电子，LED的试制

微流体器件的试制

掩膜版制作

细胞分离通道等的制作

光波导路的制作

主要参数

型号 参数	AU-PALET	AU-PALET_new
光源	375nm LED	365nm LED
光刻分辨率（使用10倍物镜）	5 mm	3 mm
曝光面积（使用10倍物镜）	1mm´0.6mm	1mm´0.6mm
平台	手动XYZq平台	手动XYZq平台
构成	装置本身，电脑， 软件	装置本身，电脑， 软件
外形尺寸	420(W) x 300(D) x 600(H)	300(W) x 450(D) x430(H)
选项	2x镜头，电动平台等	2x镜头，电动平台等